Ultra-high vacuum is used in the study of atomically clean substrates, as only a very good vacuum preserves atomic-scale clean surfaces for a reasonably long time (on the order of minutes to days).
Ultrahögvakuum används i studiet av atomärt rena substrat, eftersom bara ett mycket högt vakuum kan bevara atomära substratytor under en relativt lång tid (i storleksordningen minuter till dagar).