If a photosensitive material is selectively exposed to radiation (e.g. by masking some of the radiation) the pattern of the radiation on the material is transferred to the material exposed, as the properties of the exposed and unexposed regions differs.
Om det fotokänsliga materialet selektivt utsätts för strålning (till exempel genom att dölja en del av materialet från strålningen) överförs ett mönstret på materialet, eftersom egenskaperna för de exponerad och oexponerade regionerna skiljer sig åt.