This is a process in which silicide contacts are formed only in those areas in which deposited metal (which after annealing becomes a metal component of the silicide) is in direct contact with silicon, hence, the process is self-aligned.
Detta är en process där silicidkontakter bildas i endast de områden där den deponerad metallen (som efter glödgning blir en metallkomponent av siliciden) är i direkt kontakt med kisel, följaktligen, är processen självjusterande.